三氟化工为精密制造和半导体生产提供氟化清洗溶剂。我们的CF系列产品可直接替代已淘汰的溶剂，包括HCFC-141b、氟利昂-113、TCA和nPB，具有不易燃、零ODP配方，蒸发迅速且无残留的特点。对于先进的半导体和电子应用，我们还提供Novec 7100/7200等效的HFE流体，用于湿法清洗、脱水和助焊剂去除。
所有产品均可批量供应，并具备全球出口能力。
